1、] 用于铁薄膜的金属有化学气相沉积和退火处理

　　[2、] 由化学气相沉积法沉积的有聚合物k抗k反射涂层

　　[3、] 紫外光子复合辉光放化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法

　　[4、] 在原子层沉积过程使寄生化学气相沉积~小化~装置和原理

　　5-WX101 提高子回旋共振化学气相沉积速度的方法及装置

　　6-WX101 用于优先化学气相沉积的方法和系统

　　7-WX101 等离子体fu助化学气相沉积装置m脉m冲源的驱动路

　　8-WX101 化学气相沉积的排气处理回收的方法及装置

　　9-WX101 一种化学气相沉积球形还原铁

　　10-WX101 钨金属化学气相沉积法原子层沉积的方

　　11-WX101 液相源雾化微波等离子体化学气相沉积制备薄膜的方法

　　12-WX101 增强有金属化学气相沉积薄膜的装置及方法

　　13-WX101 适用于低温热化学气相沉积合成纳米碳管的负载金属触媒及使用此触媒的纳米碳管合成方法

　　14-WX101 用于形成金属氧化物薄膜的使用醇的化学气相沉积法

　　15-WX101 用以制造半导体装置的化学气相沉积设备的喷头

　　16-WX101 固体源化学气相沉积生长ZnO薄膜的方法

　　17-WX101 金刚相碳管及其化学气相沉积制造方法

　　18-WX101 一种大面积高速度热丝化学气相沉积金刚石的方法及设备

　　19-WX101 用业纯原料气进等离子化学气相沉积的涂层方法与设备 :

　　20-WX101 用等离子体增强的化学气相沉积法沉积垂直方向阻的方

　　93-WX101 一种感耦合射频等离子体fu助钨丝加热制备薄膜的化学气相沉积装置

　　94-WX101 一种化学气相沉积设备

　　95-WX101 三重气流金属有物化学气相沉积设备反应腔体

　　96-WX101 用于金属有化学气相沉积系统的加热装置

　　97-WX101 热梯度化学气相沉积法制备炭炭复合材料厚壁板材

　　98-WX101 用于金属有化学气相沉积设备的双层进气喷头

　　99-WX101 用于金属有化学气相沉积设备的楔形反应管

　　100-WX101 能防止污染并提高膜生长速率的化学气相沉积方法和设备

　　101-WX101 化学气相沉积处理装置

　　102-WX101 纳米二氧化硅的化学气相沉积制备方法

　　103-WX101 倒置化学气相沉积CVD的装置

　　104-WX101 直流辉光等离子体化学气相沉积方法制备碳纳米管的艺

　　105-WX101 化学气相沉积法制备洋葱状富勒烯

　　106-WX101 等离子体增强式化学气相沉积处理方法

　　107-WX101 多沉积步骤的高浓度等离子化学气相沉积方法

　　108-WX101 等离子体外部化学气相沉积用多火炬-多靶方法和设备

　　109-WX101 热梯度化学气相沉积法制备炭炭复合材料

　　110-WX101 制备纳米金刚石薄膜的fu助栅极热丝化学气相沉积法

　　111-WX101 降低化学气相沉积掺杂磷氧化层表面缺陷的方法

　　112-WX101 用低能量等离子体增强化学气相沉积法形成高迁移率硅锗结构

　　113-WX101 化学气相沉积装置

　　114-WX101 低压化学气相沉积设备减少微粒的方法

　　115-WX101 直流弧等离子体化学气相沉积装置及金刚石涂层方法

　　116-WX101 制造预制体的等离子体化学气相沉积装置和方法

　　117-WX101 等离子体化学气相沉积系统及涂覆衬底两侧的方法

　　118-WX101 采用金属有化学气相沉积法制备功能梯度材料的方法

　　119-WX101 物理场作用下化学气相沉积快速制备炭／炭复合材料的方法

　　120-WX101 监控化学气相沉积前腔体洁净度的方法

　　121-WX101 连续化学气相沉积艺和加炉

　　122-WX101 由热化学气相沉积制造氮化硅薄膜和氮氧化硅薄膜的方法

　　123-WX101 以一晶圆式化学气相沉积的反应器连续形成氧化物氮化物氧化物绝缘层的制造方法

　　124-WX101 化学气相沉积涂涂料设备

　　125-WX101 化学气相沉积金刚石聚晶金刚石复合型金刚石材料及应用

　　126-WX101 低介常数材料以及化学气相沉积（CVD）制备方法

　　127-WX101 容器内表面化学气相沉积涂层方法

　　128-WX101 在低介常数介质上沉积化学气相沉积膜和原子层沉积膜的方法

　　129-WX101 金属有物化学气相沉积氮化镓基薄膜外yan生长设备

　　130-WX101 利用等离子体化学气相沉积法沉积薄膜的方法

　　131-WX101 化学气相沉积金刚石厚膜的焊接方法

　　132-WX101 用化学气相沉积法由烷氧化铋制备铁薄膜

　　133-WX101 硼化镁超导薄膜的双加热器原化学气相沉积一步法艺

　　134-WX101 透明导膜的等离子体增强化学气相沉积设备

　　135-WX101 集硅片加热沉积于一体的化学气相沉积方法

　　136-WX101 采用大气开放式金属有物化学气相沉积制备一维氧化物阵列材料的方法及其装置

　　137-WX101 采用大气开放式金属有物化学气相沉积制备ZnO晶须的方法及其装置

　　138-WX101 热丝fu助微波子回旋共振化学气相沉积方法及装置

　　139-WX101 一种碳化硅纳米管的化学气相沉积制备方法

　　140-WX101 化学气相沉积过程的介观尺度温区温度稳定方法

　　141-WX101 在复杂形状刀具上制备金刚石薄膜的化学气相沉积方法

　　142-WX101 化学气相沉积法制备硅化钛纳米线的方法

　　143-WX101 保形性、应力和化学气相沉积层成分独立可变的甚低温化学气相沉积艺

　　144-WX101 保形性、应力和化学气相沉积层成分独立可变的甚低温化学气相沉积艺

　　145-WX101 用改良的化学气相沉积法制备光纤预型体的方法

　　146-WX101 化学气相沉积设备

　　147-WX101 一种化学气相沉积装置及其沉积方法

　　148-WX101 2S&C23C1618a01金属有化学气相沉积形成Cu2S

　　149-WX101 具有化学气相沉积的喷嘴板的热喷墨

　　150-WX101 用于大区域等离子体加强化学气相沉积的气体扩散喷头

　　151-WX101 一种化学气相沉积固态先驱体供给设备

　　152-WX101 具有较佳沉积再现性的等离子体增强化学气相沉积膜层

　　153-WX101 一种p型ZnO薄膜的金属有物化学气相沉积制备方法

　　154-WX101 用于制备光纤预型体的改进的化学气相沉积设备

　　155-WX101 用于沉积钽基材料的化学气相沉积母体

　　156-WX101 以NiAl催化剂化学气相沉积制备碳纳米管和碳洋葱的方法

　　157-WX101 直流辉光等离子体化学气相沉积氧化锌薄膜的系统及制备艺

　　158-WX101 高密度浆化学气相沉积制程及gai善膜厚均匀性的方法

　　159-WX101 等离子体化学气相沉积设备及用它制造半导体器件的方法

　　160-WX101 大气压平面放化学气相沉积纳米颗粒膜方法及装置

　　161-WX101 具有检测反应室状态功能的化学气相沉积装置及检测方法

　　162-WX101 金属有物化学气相沉积设备反应室的反烘烤沉积结构

　　163-WX101 紫外UV和等离子体fu助金属有化学气相沉积MOCVD系统

　　164-WX101 用于制造多层高温超导HTS涂布带的金属有化学气相沉积MOCVD法以及设备

　　165-WX101 一种防止高密度等离子体化学气相沉积对金属损伤的方法

　　166-WX101 生长氧化物薄膜的金属有物化学气相沉积反应室结构

　　167-WX101 形成高密度浆化学气相沉积的前金属介层的方法

　　168-WX101 一种低温化学气相沉积制备氮化硅薄膜的方法

　　334-WX101 有金属化学气相沉积装置

　　335-WX101 磁场fu助的金属有物化学气相沉积设备

　　336-WX101 一种多晶硅化学气相沉积装置

　　337-WX101 一种等离子体化学气相沉积法PECVD小车

　　338-WX101 等离子体fu助化学气相沉积装置

　　339-WX101 用于化学气相沉积的等离子炬