[2、] 磁控溅射热弯镀膜玻璃及其生产方法以及装置

　　[3、] 在非晶体材料上磁控溅射锗晶体薄膜的方法

　　[4、] 磁控管溅射

　　30-WX52783 磁控管用于控制目标冲蚀和溅射的装置

　　31-WX52783 真空磁控溅射泡沫金属化

　　32-WX52783 制备组分渐变薄膜的磁控溅射靶

　　33-WX52783 低温下用磁控溅射技术制备无应力氧氮硅薄膜

　　34-WX52783 晶硅片衬底的磁控溅射铁膜合成二硫化铁的制备方法

　　35-WX52783 一种等离子体增强非平衡磁控溅射方法

　　36-WX52783 磁控管溅射室上的分离磁体环

　　37 -8supPa超高真空圆形平面磁控溅射靶的密封装置&C23CIa01用于10sup-8supPa超高真空圆形平面磁控溅射靶的密封装置

　　38-WX52783 一种在SiC微颗粒表面磁控溅射镀铜膜的方法

　　39-WX52783 金属基k抗k菌贴片及其采用磁控溅射法制预成型体的艺

　　40-WX52783 用于超高真空系统的磁控溅射阴极靶

　　41-WX52783 采用磁控溅射在碳化硅反射镜表面涂覆硅膜的方法

　　42-WX52783 磁控管溅射源、溅射涂敷设备及对衬底进涂敷的方法

　　43-WX52783 磁控溅射卷绕镀膜

　　44-WX52783 一种磁控溅射离子镀方法

　　45-WX52783 一种磁控溅射Fe-Co合金靶的制造方法

　　46-WX52783 一种磁控溅射Co-Cr-Ta合金靶的制造方法

　　47-WX52783 磁控溅射-激光加热复合渗镀艺及设备

　　48-WX52783 溅射磁控管

　　49-WX52783 一种磁控管溅射装置

　　50-WX52783 2TiAIN纳米多层膜&B32BIa01射频磁控溅射法制备超硬TiB2TiAIN纳米多层膜

　　51-WX52783 通过溅射舱内轴瓦溅前负偏压清洗的PVD轴瓦磁控溅射艺

　　52-WX52783 铝合金减摩层软锡相颗粒更细的PVD轴瓦磁控溅射艺

　　53-WX52783 磁控溅射喷涂器人示教轨迹优化控制方法

　　54-WX52783 磁控溅射曲面喷涂三维轨迹智能控制方法

　　55-WX52783 利用直流反应磁控溅射制备p-ZnMgO薄膜的方法

　　56-WX52783 磁控溅射设备的设计支持方法、系统和程序

　　57-WX52783 一种矩形平面磁控溅射阴极

　　58-WX52783 一种平面磁控溅射靶

　　59-WX52783 生产磁控溅射热弯镀膜玻璃的装置

　　60-WX52783 高反射镜连续磁控溅射镀膜生产设备

　　61-WX52783 对靶式直流磁控离子溅射台

　　62-WX52783 一种新型柱状磁控溅射源

　　63-WX52783 室固定靶磁控溅射幕墙玻璃镀膜

　　300-WX52783 用于溅射磁性材料的磁控靶

　　301-WX52783 一种高功率平面磁控溅射阴极

　　302-WX52783 一种可提高靶材利用率的平面磁控溅射阴极

　　303-WX52783 批量制备镀膜颗粒的滚筒式磁控溅射设备

　　304-WX52783 通过防护处理的磁控溅射圆柱靶

　　305-WX52783 磁控溅射均匀进气装置

　　306-WX52783 一种连续卷绕式磁控溅射真空镀膜装置

　　307-WX52783 磁路构及具有该磁路构的磁控溅射阴极

　　308-WX52783 连续式平面磁控溅射镀膜设备

　　309-WX52783 一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置

　　310-WX52783 大型复杂曲面制件磁控溅射镀膜

　　311-WX52783 在带状纤维织物上磁控溅射纳米的卷绕镀膜

　　312-WX52783 磁控溅射设备

　　313-WX52783 多功能磁控溅射连续镀膜

　　314-WX52783 磁控溅射镀膜设备

　　315-WX52783 一种带有补偿斜靶的真空磁控溅射镀膜

　　316-WX52783 磁控溅射生产线移动式回架车的专用供装置

　　317-WX52783 磁控溅射靶

　　318-WX52783 一种新型结构平面磁控溅射靶

　　319-WX52783 大面积孪生磁控溅射源

　　320-WX52783 内装式磁控溅射靶