501 形成掩模坯板用-抗-蚀剂下层的膜的组合物、掩模坯板和掩模

　　502 除去光致-抗-蚀剂和后蚀刻残留物的气体混合物及其应用

　　503 -抗-蚀剂剥离剂组合物

　　504 金刚烷衍生物、其制造方法以及光致-抗-蚀剂用感光材料

　　505 -抗-蚀剂剥离废液再生方法和再生装置

　　506 -抗-蚀剂剥离废液再生方法和再生装置

　　507 从蚀刻晶片脱模光致-抗-蚀剂的方法

　　508 -抗-蚀图增厚材料、-抗-蚀图及其形成工艺以及半导体器件及其制造工艺

　　509 形成栅极图形的双重曝光双重-抗-蚀剂层工艺

　　510 -抗-蚀刻加热器及其组件

　　511 硫醇化合物和使用该化合物的光敏组合物与黑色基质-抗-蚀剂组合物

　　512 -抗-蚀剂组合物

　　513 光致-抗-蚀剂剥离装置、再循环光致-抗-蚀剂剥离剂的方法

　　514 -抗-蚀剂组合物、形成-抗-蚀剂图案的方法、半导体器件及其制造方法

　　515 用于清洗-抗-蚀剂脱膜剂的化学清洗组合物

　　516 用于在光致-抗-蚀剂图案上涂覆的组合物

　　517 深UV用光致-抗-蚀剂组合物及其方法

　　518 光致-抗-蚀剂涂布液供给装置以及使用该光致-抗-蚀剂涂布液供给装置的光致-抗-蚀剂涂布液供给方法和光致-抗-蚀剂涂布......

　　519 -抗-蚀防冰涂层

　　520 -抗-蚀剂成分、形成-抗-蚀剂图案的方法、基板及其制造方法

　　521 印刷用-抗-蚀剂及使用该-抗-蚀剂的构图方法

　　522 用于制造-抗-蚀图案和导体图案的方法

　　523 使用了两层型防反射膜的光致-抗-蚀剂图形的形成方法

　　524 用于制造-抗-蚀图案和导体图案的方法

　　525 光致-抗-蚀剂组合物

　　526 光致-抗-蚀剂组合物

　　527 光致-抗-蚀剂组合物

　　528 一种光致-抗-蚀膜的退除剂

　　529 正型干膜光致-抗-蚀剂

　　530 正型干膜光致-抗-蚀剂和用于制备该光致-抗-蚀剂的组合物

　　531 干膜-抗-蚀剂

　　532 去除离子注入光敏-抗-蚀剂的方法

　　533 光蚀刻用清洗液及-抗-蚀图案的形成方法

　　534 作为含硅光致-抗-蚀剂的垫层的低折射指数聚合物

　　535 浸液曝光用-抗-蚀剂组合物和-抗-蚀图案形成方法

　　536 形成-抗-反射薄膜的组合物，层状产品，和-抗-蚀剂图案的形成方法

　　537 印刷-抗-蚀剂及其制备方法和利用该印刷-抗-蚀剂的图案化方法

　　538 适合于酸生成剂的盐和含有该盐的化学放大型正性-抗-蚀剂组合物

　　539 -抗-蚀剂用化合物及放射线敏感性组合物

　　540 -抗-蚀剂保护膜形成用材料及使用该材料的-抗-蚀剂图案形成方法

　　541 光致-抗-蚀剂用剥离液以及使用该剥离液的基板处理方法

　　542 -抗-蚀膜剥离剂组合物

　　543 光致-抗-蚀剂组合物用的溶解速率改性剂

　　544 用于-抗-蚀剂下层的包含芳香环的化合物，以及-抗-蚀剂下层组合物

　　545 去除-抗-蚀剂的方法及装置

　　546 用于制备光致-抗-蚀剂图案的方法

　　547 具有

　　548 光致-抗-蚀剂剥离剂组合物以及光致-抗-蚀剂剥离方法

　　549 光致-抗-蚀剂组合物

　　550 负性-抗-蚀剂组合物和形成图案的方法

　　551 正型感光性树脂组合物、-抗-蚀图形的制造方法以及电子部件

　　552 光致-抗-蚀剂及其使用方法

　　819 化学增幅正性-抗-蚀剂组合物

　　820 化学增幅正性-抗-蚀剂组合物

　　821 光致-抗-蚀剂组合物的制造方法、过滤装置及涂布装置

　　822 有色分散体、光致-抗-蚀剂组合物和黑色矩阵

　　823 间苯二酚杯芳烃化合物、光致-抗-蚀剂基材及其组合物

　　824 用于在光致-抗-蚀剂图案上面涂覆的含内酰胺的组合物