1 (甲基)丙烯酸系共聚物及光致-抗-蚀剂用感光性材料 2 1,2－萘醌－2－二叠氮磺酸酯光敏剂、制备该光敏剂的方法和光致-抗-蚀剂组合物 3 LCD制造用正型光致-抗-蚀剂组合物和-抗-蚀图的形成方法 4 LCD制造用正型光致-抗-蚀剂组合物和-抗-蚀图的形成方法 5 LCD制造用正型光致-抗-蚀剂组合物以及-抗-蚀图形的形成方法 6 包含多酰胺组分的光致-抗-蚀剂 7 包含多种生酸剂化合物的光致-抗-蚀剂 8 包含含氮化合物的光致-抗-蚀剂 9 包含含氮化合物的光致-抗-蚀剂 10 包含具有光酸产生官能团和碱溶解度增强官能团的重复单元的聚合物和相关光致-抗-蚀剂组合物和电子装置形成方法 11 包含具有光酸产生官能团和碱溶解度增强官能团的重复单元的聚合物和相关光致-抗-蚀剂组合物和电子装置形成方法 12 包含具有双面光致-抗-蚀剂涂层的基底的可光图案化的结构 13 包含聚合物系留的纳米颗粒的光致-抗-蚀剂 14 包含内酯骨架的单体、高分子化合物及光致-抗-蚀剂组合物 15 包含吸电子取代基和内酯骨架的单体、高分子化合物及光致-抗-蚀剂组合物 16 包含酰胺组分的光致-抗-蚀剂 17 包括含有内酯部分的环烯聚合物的光致-抗-蚀剂组合物 18 包括图案硬hua步骤的用于缩小光致-抗-蚀剂图案之间的尺寸的工艺 19 杯芳烃和包含杯芳烃的光致-抗-蚀剂组合物 20 杯芳烃混合分子玻璃光致-抗-蚀剂及使用方法 21 杯间苯二酚芳烃化合物以及由其构成的光致-抗-蚀剂基材及其组合物 22 丙烯酸单体、聚合物和化学增幅型光致-抗-蚀剂组合物 23 曝光后烘烤光致-抗-蚀剂材料 24 从光致-抗-蚀剂高沸点剥离废液回收1-哌嗪乙醇的装置以及方法 25 从基材上除去光致-抗-蚀剂的非等离子体方法 26 从通道上除去光致-抗-蚀剂和蚀刻残留物的方法 27 从微电子器件上清除离子注入光致-抗-蚀剂层的配方 28 带有光产酸剂的含光自由基产生剂的光致-抗-蚀剂组合物 29 单体,聚合物,光致-抗-蚀剂组合物和形成光刻图案的方法 30 单体,聚合物和光致-抗-蚀剂组合物 31 胆酸酯光酸发生剂和包含该发生剂的光致-抗-蚀剂 32 胆酸酯光酸发生剂和包含该发生剂的光致-抗-蚀剂 33 短波长成像用光致-抗-蚀剂组合物 34 防腐蚀性光致-抗-蚀剂剥离剂组合物 35 非蚀刻性光致-抗-蚀剂用附着力cu进剂 36 非旋涂方式用正型光致-抗-蚀剂组合物及-抗-蚀图形形成方法 37 酚醛清漆树脂溶液、正型光致-抗-蚀剂组合物及其调制方法 38 负性工作厚膜光致-抗-蚀剂 39 负性光致-抗-蚀剂组合物 40 负性光致-抗-蚀剂组合物 41 负性光致-抗-蚀剂组合物 42 负性光致-抗-蚀剂组合物和器件的图案化方法 43 感光型聚酰亚胺及负型光致-抗-蚀剂组合物 44 感光性组合物与光致-抗-蚀剂 45 干膜光致-抗-蚀剂 46 干膜光致-抗-蚀剂 47 干膜光致-抗-蚀剂及其制备方法 48 干膜光致-抗-蚀剂用的光敏树脂组合物 49 干膜光致-抗-蚀剂用的光敏树脂组合物 50 高分子化合物、光致-抗-蚀剂用树脂组合物、及半导体的制造方法 51 高分子化合物、含有该高分子化合物的光致-抗-蚀剂组合物以及-抗-蚀图案形成方法 52 高金刚烷衍生物、其制备方法及光致-抗-蚀剂用感光性材料 53 高金刚烷衍生物、其制备方法以及光致-抗-蚀剂组合物 54 光碱产生剂以及包含其的光致-抗-蚀剂组合物 55 光可破坏淬灭剂和相关光致-抗-蚀剂组合物以及装置形成方法 56 光敏丙烯酸AED树脂和包括它的负性光致-抗-蚀剂组合物及其制备方法 57 光敏共聚物 包含所述共聚物的光致-抗-蚀剂以及由其形成的制品 58 光敏共聚物和光致-抗-蚀剂组合物 59 光敏化合物和包含该光敏化合物的光致-抗-蚀剂组合物 60 光酸产生剂及含有该光酸产生剂的光致-抗-蚀剂 61 光酸产生剂及含有它的光致-抗-蚀剂 62 光酸发生剂和包含该光酸发生剂的光致-抗-蚀剂 63 光致-抗-蚀剂保护层组合物 64 光致-抗-蚀剂剥离和清洁组合物、其制备方法及其用途 65 光致-抗-蚀剂剥离剂 66 光致-抗-蚀剂剥离剂 67 光致-抗-蚀剂剥离剂组合物 68 光致-抗-蚀剂剥离剂组合物 69 光致-抗-蚀剂剥离剂组合物、层积金属布线基板的光致-抗-蚀剂剥离方法和制造方法 70 光致-抗-蚀剂剥离剂组合物以及光致-抗-蚀剂剥离方法 71 光致-抗-蚀剂剥离液及剥离方法 72 光致-抗-蚀剂剥离液组合物 73 光致-抗-蚀剂剥离液组合物、图案的制造方法和显示装置 74 光致-抗-蚀剂剥离液组合物及使用光致-抗-蚀剂剥离液组合物的光致-抗-蚀剂的剥离方法 75 光致-抗-蚀剂剥离液组合物及使用光致-抗-蚀剂剥离液组合物的光致-抗-蚀剂的剥离方法 76 光致-抗-蚀剂剥离液组合物以及光致-抗-蚀剂的剥离方法 77 光致-抗-蚀剂剥离用组合物和剥离方法以及显示装置的制法 78 光致-抗-蚀剂剥离装置、再循环光致-抗-蚀剂剥离剂的方法 79 光致-抗-蚀剂剥离组合物及使用所述组合物剥离光致-抗-蚀剂的方法 80 光致-抗-蚀剂残渣及聚合物残渣除去液组合物 81 光致-抗-蚀剂层的形成方法 82 光致-抗-蚀剂层的重工方法与图案化工艺 83 光致-抗-蚀剂的除去方法 84 光致-抗-蚀剂的脱膜工艺及在该工艺中使用的组合物、第二组合物和脱膜剂水溶液 85 光致-抗-蚀剂底层组合物和使用其制造半导体器件的方法 86 光致-抗-蚀剂和光刻方法 87 光致-抗-蚀剂回收系统及其方法 88 光致-抗-蚀剂基材及其精制方法、和光致-抗-蚀剂组合物 89 光致-抗-蚀剂及其使用方法 90 光致-抗-蚀剂及其使用方法 91 光致-抗-蚀剂及其使用方法 92 光致-抗-蚀剂聚合物及包含其的光致-抗-蚀剂组合物 93 光致-抗-蚀剂面漆组合物和加工光致-抗-蚀剂组合物的方法 94 光致-抗-蚀剂膜的剥离液组合物 95 光致-抗-蚀剂去除机台以及光致-抗-蚀剂去除工艺 96 光致-抗-蚀剂去除用组合物和用其制造阵列基板的方法 97 光致-抗-蚀剂上方的金属层的平坦化 98 光致-抗-蚀剂图案形成方法 99 光致-抗-蚀剂图案修整组合物和方法 100 光致-抗-蚀剂图案修整组合物和方法 101 光致-抗-蚀剂涂布设备的元件洁净装置 102 光致-抗-蚀剂外涂层组合物 103 光致-抗-蚀剂显影废水的处理方法 104 光致-抗-蚀剂显影液及使用该显影液的基板的制造方法 105 光致-抗-蚀剂掩膜形成方法 106 光致-抗-蚀剂移除处理装置及方法 107 光致-抗-蚀剂用剥离液 108 光致-抗-蚀剂用剥离液、剥离液循环系统和运转方法以及剥离液的循环方法 109 光致-抗-蚀剂用剥离液以及使用该剥离液的基板处理方法 110 光致-抗-蚀剂用聚合性化合物、其聚合物以及含有该聚合物的光致-抗-蚀剂组合物 111 光致-抗-蚀剂用溶剂以及采用它的狭缝涂敷用光致-抗-蚀剂组合物 112 光致-抗-蚀剂用树脂组合物 113 光致-抗-蚀剂用树脂组合物 114 光致-抗-蚀剂用树脂组合物、光致-抗-蚀剂以及液晶设备的制造方法 115 光致-抗-蚀剂元件的形成方法 116 光致-抗-蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物 117 光致-抗-蚀剂制造用组合物的制造方法 118 光致-抗-蚀剂组合物 119 光致-抗-蚀剂组合物 120 光致-抗-蚀剂组合物 121 光致-抗-蚀剂组合物 122 光致-抗-蚀剂组合物 123 光致-抗-蚀剂组合物 124 光致-抗-蚀剂组合物 125 光致-抗-蚀剂组合物 126 光致-抗-蚀剂组合物 127 光致-抗-蚀剂组合物 128 光致-抗-蚀剂组合物 129 光致-抗-蚀剂组合物 130 光致-抗-蚀剂组合物 131 光致-抗-蚀剂组合物 132 光致-抗-蚀剂组合物 133 光致-抗-蚀剂组合物 134 光致-抗-蚀剂组合物 135 光致-抗-蚀剂组合物 136 光致-抗-蚀剂组合物 137 光致-抗-蚀剂组合物 138 光致-抗-蚀剂组合物 139 光致-抗-蚀剂组合物 140 光致-抗-蚀剂组合物 141 光致-抗-蚀剂组合物 142 光致-抗-蚀剂组合物 143 光致-抗-蚀剂组合物 144 光致-抗-蚀剂组合物 145 光致-抗-蚀剂组合物 146 光致-抗-蚀剂组合物 147 光致-抗-蚀剂组合物 148 光致-抗-蚀剂组合物 149 光致-抗-蚀剂组合物 1-10.TIF150 光致-抗-蚀剂组合物、其涂布方法及-抗-蚀剂图形的形成方法 151 光致-抗-蚀剂组合物、图案化薄膜的方法和制备液晶显示器面板的方法 152 光致-抗-蚀剂组合物的制造方法、过滤装置、涂布装置和光致-抗-蚀剂组合物 153 光致-抗-蚀剂组合物的制造方法、过滤装置及涂布装置 154 光致-抗-蚀剂组合物的制造方法、过滤装置及涂布装置 155 光致-抗-蚀剂组合物和方法 156 光致-抗-蚀剂组合物和-抗-蚀图案的形成方法 157 光致-抗-蚀剂组合物和使用该组合物制造阵列基板的方法 158 光致-抗-蚀剂组合物和形成电子装置的相关方法 159 光致-抗-蚀剂组合物和形成电子装置的相关方法 160 光致-抗-蚀剂组合物和形成光刻图案的方法 161 光致-抗-蚀剂组合物和形成光刻图案的方法 162 光致-抗-蚀剂组合物和用于制备光致-抗-蚀剂图案的方法 163 光致-抗-蚀剂组合物及多层-抗-蚀剂体系的多次曝光方法 164 光致-抗-蚀剂组合物及多层-抗-蚀剂体系的多次曝光方法 165 光致-抗-蚀剂组合物及利用它制备薄膜晶体管基底的方法 166 光致-抗-蚀剂组合物及其无旋转涂布法、有机层图案制造方法、液晶显示器 167 光致-抗-蚀剂组合物及其制备方法 168 光致-抗-蚀剂组合物及使用其制造显示基板的方法 169 光致-抗-蚀剂组合物及形成光致-抗-蚀剂图案的方法 170 光致-抗-蚀剂组合物及用该组合物形成图案的方法 171 光致-抗-蚀剂组合物及用其形成图案的方法 172 光致-抗-蚀剂组合物及制造薄膜晶体管基板的方法 173 光致-抗-蚀剂组合物以及形成光刻图案的方法 174 光致-抗-蚀剂组合物以及用多层光致-抗-蚀剂体系进行多重曝光的方法 175 光致-抗-蚀剂组合物用的溶解速率改性剂 176 光致生酸化合物和包含它的光致-抗-蚀剂组合物 包含光致-抗-蚀剂的涂覆制品及其制造方法 ............ 364 正性光致-抗-蚀剂组合物、厚膜光致-抗-蚀剂层压材料、用于制备厚膜-抗-蚀剂图案的方法以及用于制备接线端子的方法 365 正性光致-抗-蚀剂组合物及-抗-蚀图形的形成方法 366 脂环族单体 包含该单体的聚合物以及包含所述聚合物的光致-抗-蚀剂组合物 367 制备稳定的光致-抗-蚀剂组合物的方法 368 制造光致-抗-蚀剂图案的方法 369 自形成的顶-抗-反射涂料组合物以及利用该组合物的光致-抗-蚀剂混合物和成像方法