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氧化铟锡制备专利技术大全

产品描述

品牌 其他
型号 其他
公司性质 私营企业
所在区域 山东济宁市
所在行业 软件技术培训

  1、] 以水溶液法制备氧化铟锡粉末的方法

  [2、] 氧化铟固溶锡的ITO粉末制造方法以及ITO靶的制造方法

  [3、] 氧化锡氧化铟触点用线材及其生产艺

  [4、] 制造氧化铟/氧化锡烧结体的方法和用其制造的制品

  5-WX62342 氧化铟氧化锡溅射靶材及其制造方法

  6-WX62342 金属氧化铟锡复合透明导薄膜及其制备方法

  7-WX62342 氧化铟锡膜用浸蚀液

  8-WX62342 图案化氧化铟锡薄膜的方法

  9-WX62342 平面磁控溅射氧化铟锡膜卷绕镀膜

  10-WX62342 具有频反应溅射二氧化硅的氧化铟锡玻璃联镀装置

  12-WX62342 增进平坦化氧化铟锡薄膜的方法

  13-WX62342 氧化铟锡粉末的制备方法

  14-WX62342 使集成路可承受高压静放的氧化铟锡走线方法

  15-WX62342 高温金属舟及其镀制掺锡氧化铟透明导膜的方法

  16-WX62342 一种氧化铟锡专用浆料及其制造方法

  17-WX62342 在红外波段具有低发射率的氧化铟锡粉末及其制备方法

  18-WX62342 子束蒸发低温制备锡掺杂氧化铟ITO薄膜的方法

  19-WX62342 热稳定型及低阻比氧化铟锡膜制法

  20-WX62342 氧化铟锡透明导玻璃及其生产艺

  21-WX62342 锡掺杂氧化铟纳米粉体的制备方法

  22-WX62342 纳米级氧化铟锡复合粉体的制备方法

  23-WX62342 掺锡氧化铟微粒子分散液及其制造方法、及采用了该分散液的具有热线屏蔽性的夹层玻璃用间膜、以及其夹层玻

  24-WX62342 氧化铟-氧化锡粉末和使用该粉末的溅射靶以及氧化铟-氧化锡粉末的制造方法

  25-WX62342 氧化铟-氧化锡粉体和利用该粉体的溅射靶

  26-WX62342 一种液相共沉淀生产超细氧化铟锡粉体的方法

  27-WX62342 氧化铟锡超细粉体的低温制备方法

  28-WX62342 改进的用于精密切割和对齐液晶显示器L面板的氧化铟锡ITO的制定图案

  29-WX62342 表面改性的氧化铟锡

  30-WX62342 柔性衬底上室温溅射沉积氧化铟锡透明导薄膜的方法

  31-WX62342 具有氧化铟锡层的发光二极管及其制造方法

  32-WX62342 一种氧化铟锡靶材的生产方法

  33-WX62342 用于氧化铟锡表面的化学械抛光的组合物及方法

  34-WX62342 氧化铟锡靶及制造方法和氧化铟锡透明导膜及制造方法

  35-WX62342 一种低温下制备小尺寸氧化铟锡纳米线材料的方法

  36-WX62342 氧化铟锡透明导薄膜的制备方法

  37-WX62342 氧化铟锡分散纳米粉体的低温溶剂热制备方法

  38-WX62342 氧化铟锡子束光刻胶的合成方法和使用其形成氧化铟锡图案的方法

  39-WX62342 氧化铟锡层的形成

  40-WX62342 一种在柔性基材上制备氧化铟锡导膜的生产艺

  41-WX62342 一种设有氧化铟锡容感应盘的触摸模组

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