1、例如用于冻干/冷链药物/疫苗的原子层沉积涂覆的药物包装和改进的注射器和小瓶

　　2、一种原子层沉积技术生长Cu2O薄膜的方法及制备的Cu2O薄膜

　　3、一种原子层沉积设备用新型上料台

　　4、一种原子层沉积薄膜的制备方法

　　5、一种原子层沉积法生长AlScN薄膜及其制备方法

　　6、反应前体蒸发器和含彼的原子层沉积系统

　　7、一种原子层沉积的装置

　　8、一种基于原子层沉积的ZrxHf(1-x)O2薄膜的制备方法

　　9、含硅膜的等离子体增强型原子层沉积

　　10、一种原子层沉积设备

　　11、用于空间离的原子层沉积腔室的改进的注射器

　　12、可进行原位谱学表征的原子层沉积系统及方法

　　13、一种原子层沉积技术制备抗菌涂层的方法

　　14、一种通过原子层沉积技术制备Pt掺杂SnO2钛阳极的方法

　　15、原子层沉积装置

　　16、一种用于原子层沉积设备进气管路

　　17、一种原子层沉积设备真空腔

　　18、一种气包装置及原子层沉积设备

　　19、一种利用原子层沉积制备氧化镓薄膜材料的腔室及其方法

　　20、一种多用途的原子层沉积装置

　　21、一种用于原子层沉积设备的分体式工艺腔机构

　　22、用于管道的缓存气包装置及原子层沉积设备

　　23、一种原子层沉积制备氧化镓材料的系统及其制备方法

　　24、一种超高真空原子层沉积系统

　　25、基于原子层沉积的触觉传感织物及其制作方法

　　26、集成稀土永磁合金氢破碎和原子层沉积包覆铜镀层的方法

　　27、原子层沉积设备

　　29、一种适用于原子层沉积工艺的复合膜及其制备方法

　　30、高K介质层的原子层沉积方法

　　31、一种基于原子层沉积制备X7R温度特性电容器基片的方法及X7R温度特性电容器基片

　　32、一种工业原子层沉积腔室结构

　　33、原子层沉积设备

　　34、一种原子层沉积反应腔室和原子层沉积设备

　　35、原子层沉积方法以及原子层沉积系统

　　36、原子层沉积方法及原子层沉积装置

　　37、原子层沉积涂层的后处理法制备含氯涂层用于正极的方法

　　38、一种原子层沉积装置

　　39、一种原子层沉积实验机的上料机构

　　40、原子层沉积反应器装置及用于操作原子层沉积反应器装置的方法

　　41、用于原子层沉积的还原剂

　　42、基于原子层沉积的钠离子电池正极材料的制备方法

　　43、原子层沉积设备

　　44、用于原子层沉积的真空室和装置

　　45、一种原子层沉积镀膜设备

　　46、原子层沉积设备

　　47、原子层沉积工艺方法

　　48、原子层沉积设备

　　49、通过原子层沉积来沉积的抗侵蚀金属氟化物涂层

　　50、一种滚筒式原子层沉积设备

　　51、一种原子层沉积实验机的送料结构

　　52、一种叠层钙钛矿太阳能电池用原子层沉积装置

　　53、一种原子层沉积腔室容积可调的沉积腔结构

　　54、一种用于原子层沉积加工的上下料装置

　　55、原子层沉积装置和原子层沉积方法

　　56、前驱体输出装置和原子层沉积设备

　　57、通过等离子体增强原子层沉积沉积可流动SICN膜

　　58、利用微波辐射能量对原子层沉积制程进行微波辅助表面化学退火的微波系统

　　59、一种原子层沉积涂布设备

　　60、一种用于空间隔离原子层沉积设备的匀气喷头装置

　　61、原子层沉积设备

　　62、一种连续式原子层沉积设备

　　63、一种原子层沉积设备的沉积腔室

　　64、一种可移动加热的原子层沉积设备

　　65、一种叠层钙钛矿太阳能电池用原子层沉积方法

　　66、一种基于原子层沉积技术的钽掺杂氧化钛薄膜及其制备方法和应用

　　67、原子层沉积设备

　　68、原子层沉积系统

　　69、一种新型原子层沉积实验机

　　70、利用多个均匀加热的进料容积的原子层沉积

　　71、一种用于提高原子层沉积多层膜膜厚控制精度的方法

　　72、钝化层的区域选择性原子层沉积

　　73、原子层沉积设备和使用该设备的原子层沉积方法

　　74、用于原子层沉积的系统和方法

　　75、原子层沉积设备和方法

　　76、静电场和超声场作用下的粉体表面原子层沉积装置及方法

　　77、用于原子层沉积的具有管线填充容积容器的前体分配系统

　　78、可均匀进气的原子层沉积装置

　　79、一种支架和原子层沉积镀膜设备

　　80、一种非真空原子层沉积氧化镓薄膜的制备方法

　　81、一种原子层沉积设备、方法及薄膜制备方法

　　82、一种用于微通道反应器的原子层沉积设备

　　83、用于选择性膜生长的原子层沉积方法

　　84、原子层沉积技术改性金属氧化物正极的制备方法及应用

　　85、液体存储装置以及原子层沉积设备

　　86、原子层沉积设备和原子层沉积设备的定温定量输气装置

　　87、一种表面掺杂梯度富锂正极材料的原子层沉积的制备方法

　　88、一种原子层沉积设备

　　89、一种原子层沉积设备

　　90、一种水平传输装置和原子层沉积设备

　　91、一种用于原子层沉积的进气系统及半导体工艺设备

　　92、一种等离子体增强原子层沉积成膜装置

　　93、一种无定形氧化铪薄膜及其原子层沉积制备方法和应用

　　94、原子层沉积方法

　　95、一种用于原子层沉积高保形度三维图形的反应室系统

　　96、一种原子层沉积系统

　　97、一种用于批次式成膜的原子层沉积装置

　　98、一种进气装置和原子层沉积设备

　　99、用于原子层沉积金属硫化物的反应残余物循环再利用方法及装置

　　100、在大比表面积基底上制备原子层沉积二硫化铌薄膜的方法及装置

　　101、原子层沉积设备

　　102、适用于键合基板的原子层沉积机台

　　103、阀门组件及原子层沉积设备

　　104、一种原子层沉积装置和气相沉积设备

　　105、一种原子层沉积硫系相变薄膜的方法

　　106、一种原子层沉积反应装置

　　107、一种用于原子层沉积系统的固体源输送装置

　　108、一种基于原子层沉积的二硫化钽薄膜制备装置及方法

　　109、原子层沉积设备

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　　783、原子层沉积方法以及形成的半导体器件

　　784、原子层沉积方法以及形成的半导体器件

　　785、原子层沉积方法以及形成的半导体器件

　　786、原子层沉积反应器

　　787、基型铪和锆前体和其在原子层沉积中的用途

　　788、作为用于铜金属化的阻挡层的原子层沉积氮化钽和α相钽

　　789、用于高介电常数含铪介电材料的原子层沉积的装置和方法

　　790、用于高介电常数含铪介电材料的原子层沉积的装置和方法

　　791、高介电常数金属硅酸盐的原子层沉积

　　792、形成含二氧化硅的层的原子层沉积方法

　　793、高k金属氧化物的原子层沉积

　　794、通过原子层沉积形成的塑料基材阻挡层膜

　　795、用于原子层沉积的方法和设备

　　796、瞬时增强原子层沉积

　　797、通过原子层沉积用于沉积铜膜的挥发性铜(Ⅰ)配合物

　　798、原子层沉积方法

　　799、使用脒属的原子层沉积

　　800、原子层沉积方法和原子层沉积设备

　　801、原子层沉积方法

　　802、用于原子层沉积的设备

　　803、原子层沉积方法和设备

　　804、作为用于铜金属化的阻挡层的原子层沉积氮化钽和α相钽

　　805、原子层沉积装置和方法

　　806、采用原子层沉积工艺在基片上形成二氧化硅层的方法

　　807、原子层沉积反应设备

　　808、批量式原子层沉积设备

　　809、在原子层沉积过程中使寄生化学气相沉积最小化的装置和原理

　　810、使用原子层沉积在基片上沉积高介电常数材料的方法

　　811、通过使用三(二甲基氨基)的原子层沉积形成含硅薄膜的方法

　　812、原子层沉积工艺的处理室

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